发明名称 |
用于镍层无电沉积的镀浴 |
摘要 |
本发明涉及用于镍和镍合金沉积的水性镀浴组合物,其利用具有碳碳三键和官能团的新颖稳定剂来增强所述浴性能。 |
申请公布号 |
CN104321463B |
申请公布日期 |
2016.12.28 |
申请号 |
CN201380026312.3 |
申请日期 |
2013.05.31 |
申请人 |
德国艾托特克公司 |
发明人 |
海科·布伦纳;扬·皮卡勒克;尤利娅·贝扬;卡斯滕·克劳斯;霍尔格·贝拉;斯文·鲁克布拉德 |
分类号 |
C23C18/34(2006.01)I;C23C18/50(2006.01)I;H01L21/288(2006.01)I |
主分类号 |
C23C18/34(2006.01)I |
代理机构 |
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 |
代理人 |
林斯凯 |
主权项 |
一种用于镍和镍合金的无电沉积的水性镀浴组合物,所述水性镀浴组合物包含(i)镍离子的来源,(ii)至少一种络合剂,(iii)至少一种还原剂,(iv)式(1)的稳定剂:<img file="FDA0001043039900000011.GIF" wi="853" he="369" />其中X是选自O和NR<sup>4</sup>,n在1到6范围内,m在1到8范围内;R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>、R<sup>3</sup>和R<sup>4</sup>是独立地选自氢和C<sub>1</sub>到C<sub>4</sub>烷基;Y是选自‑SO<sub>3</sub>R<sup>5</sup>、‑CO<sub>2</sub>R<sup>5</sup>和‑PO<sub>3</sub>R<sup>5</sup><sub>2</sub>,且R<sup>5</sup>是选自氢、C1‑C4烷基和适合的反离子。 |
地址 |
德国柏林 |