发明名称 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
摘要 기판 처리 장치에서는, 노즐 간극의 상방에 있어서 처리액 노즐의 주위에 래비린스가 형성되고, 래비린스에 시일 가스가 공급됨으로써, 노즐 간극이 외부 공간으로부터 시일된다. 그 결과, 외부 공간의 분위기가 노즐 간극을 통하여 처리 공간에 침입하는 것을 억제할 수 있다. 또, 톱 플레이트의 대향 부재 플랜지부의 상면에 제 1 요철부가 형성되고, 대향 부재 이동 기구의 유지부 본체의 하면에 제 2 요철부가 형성된다. 그리고, 톱 플레이트가 제 2 위치에 위치하는 상태 (즉, 처리 공간이 형성된 상태) 에 있어서만, 제 1 요철부 및 제 2 요철부의 일방의 오목부 내에 타방의 볼록부가 간극을 개재시켜 배치됨으로써 래비린스가 형성된다. 이로써, 기판 처리 장치의 편평화를 실현할 수 있다.
申请公布号 KR20160147659(A) 申请公布日期 2016.12.23
申请号 KR20160071915 申请日期 2016.06.09
申请人 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 发明人 이와오 미치노리;무라모토 료
分类号 H01L21/02;H01L21/66;H01L21/67;H01L21/683;H01L21/687 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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