等离子处理装置以及等离子处理方法

摘要

一种等离子处理装置，具备：反应室；使反应室中产生等离子的等离子产生部；配置在反应室的内部，搭载具备基板、保持片和框架的输送载体的工作台；具备设置在工作台内部的电极部的静电吸附机构；在工作台上的搭载位置与工作台向上方脱离的交接位置之间支撑输送载体的支撑部；和使支撑部相对于工作台升降的支撑部，在将输送载体搭载于工作台时，1)保持片的外周部与工作台接触后，静电吸附机构向电极部施加电压，电压的施加包含使电压的绝对值增减的操作，上述操作结束后，或2)保持片与工作台接触后，升降机构在工作台附近使支撑部分别上升及下降1次以上，支撑部的上升及下降结束后，且保持片的外周部与工作台接触后，等离子产生部产生等离子。

主权项

一种等离子处理装置，对被保持于输送载体的基板进行等离子处理，所述输送载体具备保持片和被配置在所述保持片的外周部的框架，所述基板被保持于所述保持片，所述等离子处理装置具备：反应室；等离子产生部，其使所述反应室中产生等离子；工作台，其被配置在所述反应室的内部，用于搭载所述输送载体；静电吸附机构，其具备被设置在所述工作台内部的电极部；支撑部，其在所述工作台上的搭载位置与从所述工作台向上方脱离的交接位置之间支撑所述输送载体；和升降机构，其使所述支撑部相对于所述工作台升降，在将所述输送载体搭载于所述工作台的情况下，在所述保持片的所述外周部与所述工作台接触之后，所述静电吸附机构向所述电极部施加电压，所述电压的施加包含使电压的绝对值增减的操作，在所述操作结束之后，所述等离子产生部产生等离子。