发明名称 MASK ALIGNMENT IN MANUFACTURING SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUITS
摘要
申请公布号 GB1425610(A) 申请公布日期 1976.02.18
申请号 GB19730025014 申请日期 1973.05.24
申请人 HITACHI LTD 发明人
分类号 G03F9/00;(IPC1-7):G05D3/04 主分类号 G03F9/00
代理机构 代理人
主权项
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