ACTIVE LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION ACTIVE LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM USING SAME PATTERN FORMATION METHOD PRODUCTION METHOD FOR ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE

摘要

수지 (A), 및 활성광선 또는 방사선의 조사에 의하여 산을 발생시키는 광산발생제 (B)를 함유하는 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물이며, 광산발생제 (B)로서, 하기 일반식 (1)로 나타나는 광산발생제 (B1)과, 광산발생제 (B1)과는 다른 광산발생제 (B2)를 적어도 함유하는 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물이다.