| 发明名称 |
METHOD OF FORMING RESIST FILM FOR ELECTRON BEAM |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPS5334475(A) |
申请公布日期 |
1978.03.31 |
| 申请号 |
JP19770088913 |
申请日期 |
1977.07.26 |
| 申请人 |
IBM |
发明人 |
DEYUEIN EDOWAADO JIYONSON;RESUTAA AARIN PEDAASON |
| 分类号 |
G03F7/20;G03C1/72;G03C5/08;G03F7/039;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
