| 发明名称 |
DIAPHRAGM FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE APPARATUS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS5357759(A) |
申请公布日期 |
1978.05.25 |
| 申请号 |
JP19760132613 |
申请日期 |
1976.11.04 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD |
发明人 |
UEMA TAKEARI;TSUCHIKAWA HARUO;YASUDA HIROSHI |
| 分类号 |
H01J37/09;G03F7/20;H01J37/30;H01L21/027;H01L21/312 |
主分类号 |
H01J37/09 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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