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发明名称 RADIOACTIVE GASEOUS ION IMPLANTATION SYSTEM
摘要
申请公布号 JPS53134200(A) 申请公布日期 1978.11.22
申请号 JP19770047794 申请日期 1977.04.27
申请人 TOKYO SHIBAURA ELECTRIC CO 发明人 IIMURA MASASHI;OZAKI SATORU
分类号 G21F9/02;G21F9/00 主分类号 G21F9/02
代理机构 代理人
主权项
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