| 发明名称 |
IMPLANTING METHOD OF CHARGE PARTICLES TO SEMICONDUCTOR WAFERS AND APPARATUS FOR THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS5494275(A) |
申请公布日期 |
1979.07.25 |
| 申请号 |
JP19780000821 |
申请日期 |
1978.01.10 |
| 申请人 |
TOKYO SHIBAURA ELECTRIC CO |
发明人 |
OOTAKE KAZUMICHI;KOIKE KATSUO |
| 分类号 |
H01J37/317;H01J37/30;H01L21/265 |
主分类号 |
H01J37/317 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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