发明名称 抗菌剂顺–BM12錂R,及顺–BM12錂R2之烷基化衍生物之制法
摘要
申请公布号 TW026251 申请公布日期 1979.09.01
申请号 TW06610210 申请日期 1977.02.04
申请人 氰胺公司 发明人 JOSEPH JOHN HLAVKA
分类号 A01N47/36 主分类号 A01N47/36
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1﹒制备下式化合物之方法:式中R系下式之原子团: R1系氢,具有高达8个碳原子之烷基,基及具有2至8个碳原子之烯基。其特点为将下式化合物之水溶液:(式中R及R1为如上所界定者),以具有波长为约二五00A及四000A间之光于5。─50℃之温度下照射约20分钟至约2小时。2﹒制备下式化合物之方法:式中R系如上所界定者;比系具有高达3个碳原子之烷基;R3系具有高达8个碳原子之烷基、N,N─二(C1─C4烷基)─胺(C1─C4烷基)、具有高达4个碳原子之氯烷基、苯基、基、─苯乙基、具有2─8个碳原子之烯基、具有高达4个碳原子之羟烷基;而R2及R3与其相联之甲川基连合为环丁基,还戊基,单甲基环戊基,二甲基环戊基,三甲基环戊基,环己基,单甲基环己基,二甲基环己基,三甲基环己基,环庚基或下式之原子团:式中R4为氢,具有高达4个碳原子之烷基,苯基或基。此方法之特点为将下式化合物之水溶液:(式中R,R2及R3为如上所界定者)以具有波长为约二五00A及四000A间之光于5─50℃照射约20分钟至约2小时。3﹒制备下式化合物之方法:式中R及R1为如上所界定者。其特点为将下式之胺: (式中R为如上所界定者),用一种下式之醛:R1─CHO(式中R1为如上所界定者),于氰基氢硼化钠存在下,在一种对反应剂呈惰性溶剂(例如水、甲醇及甲基纤维素)中于6﹒0─8﹒0之pH及10─35℃之温度烷化约1至24小时。4﹒制备下式化合物之方法:式中R,R2及R3为如上所界定者。其特点为将下式之胺:(式中R为如上所界定者),用一种下式之酮:(式中R2及R3为如上所界定者),于氰基氢硼化钠存在下,在一种对反应剂呈惰性之溶剂(例如水、甲醇及甲基纤维素)中于6﹒0─8﹒0之PH及10─35℃之温度烷化约1至24小时。
地址 美国