发明名称 用以形成一种成型之抗磨涂层制品之方法
摘要
申请公布号 TW028166 申请公布日期 1980.01.01
申请号 TW06611593 申请日期 1977.08.24
申请人 孟尼苏泰矿务及制造公司 发明人
分类号 C09D163/00 主分类号 C09D163/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.用以形成一种成型之抗磨涂层制品之方法,包括在一黏合于一可模塑热塑性树脂之部份热化薄膜上加热及施压,该部份熟化薄膜至少含重量百分比15%之由环氧端基矽烷衍生而具有下式之物质:其中R系20个碳原子以下(含脂肪族、芳香族、或脂肪族与芳香族的)不能水解的二价烃基,或20个碳原子以下由C、H、N、S及O原子组成之一项二价基(此等原子为二价基之主干中可出现之仅有原子),O原子系成醚键形成。二价烃基之主干内不可有邻接二个杂原子。此项说明限制木发明实用之二价烃基于环氧端基之矽氧烷。n値系0至l,R'系含10个碳原子以下的脂肪族烃基,含10个碳原子以下之醚基或(CH2CH2O)KZ式之基,其中K系一至少为1之整数,而Z系含10个碳原子以下之脂肪族烃基或氧,m値为1至3,该薄膜经以重量计0.0七五至二.五%之触媒热化至一种程度,俾于以下述方式测量时,于15秒钟以上及71/2分钟以下出现肉眼可见之二氯甲烷侵蚀:(1)于薄膜上放置一片4.25公分直径之圆滤纸,(2)将此纸周二氯甲烷湿透,(3)于湿纸上放一块透明塑胶盖,及(4)测量涂层上肉眼可见侵蚀之时间;该经部份熟熟化的薄膜之特征为薄膜内有足量之一种潜伏催化剂,于消除潜伏性时,薄膜将熟化至一种程度以致此部份熟化的薄膜于以上条件下在10分钟内不受二氯甲烷之侵蚀,以及再利用方法以消除该潜在催化剂。2.根据上述请求专利部份第1项之方法,其中澳伏催化剂系一高度氟化烷磺醯酸催化剂或一高度氟化烷磺酸催化剂之一种盐。3.根据上述请求专利部份第2项之方法,其中潜伏催化剂系该酸催化剂之一种铵盐、有机胺盐或金属盐。4.根据上述请求专利部份第1项之方法,其中环氧端基的矽烷于一金属酯存在中已经部份熟化。5.根据上述请求专利部份第4项之方法,其中该金属酯系一钛酸酯。6.一种形成一成型抗磨涂层制品之方法,包括在一黏合于一可模理的热塑性树脂之部份熟化薄膜上加热及施压,该部份热化薄膜至少含以重量计15% 中环氧端基的矽烷衍生而具有下式之物质:其中R系20个碳原子以下(含脂肪族、芳香族、或脂肪族与芳香族的)不能水解的二价烃基,或20个碳原子以下由C、H、N、S及O原子组成之一项二价基(此等原子为二价基之主干中可出现之仅有原子>,O原子系成醚键形式。二价烃基之主干内不可有邻接二个杂原子。此项说明限制本发明实用之二价烃基于环氧端基下矽氧烷。n値系0至l,R'系含10个碳原子以下的脂肪族烃基,含10个碳原子以之之醯基或(CH2CH2O)kZ式之基,其中k系一至少为1之整数,而Z系含10个个碳原子以下之脂肪族烃基或氢,m値为1至3。该薄膜经以重量计0.0七五至三.五%之触媒熟化至一种程度,俾于以下述方式测量时,于15秒钟以上及71/2分钟以下出现肉眼可见之二氯甲烷侵蚀:(1)薄膜上放置一片4.25公分直径之圆滤纸,(2)此纸用二氯甲烷湿透,(3)湿纸上放一块透明塑胶盖,及(4)测量涂层上肉眼可见侵蚀之时间;该经部份熟化的薄膜之特征为有一层直接黏合其上的热塑性聚合物,该聚合物内含足量催化剂,俾于加热至一温度足使催化剂移动至此部份熟化的薄膜层时,此部份熟化的薄膜层将被热化至一充份程度能使其时已经熟化的薄膜于上述条件下在10分钟内不受二氯甲烷之侵蚀该项热度与压力足供催化剂移动至该部份熟化层使该环氧端基的矽烷层熟化至二种程度以致能耐二氯甲烷侵蚀达10分钟以上。7.根据上述请求专利部份第6项之方法,其中黏合于该部份熟化薄膜的该热塑性聚合物层内之催化剂系一高度氟化的烷磺醯或磺酸催化剂。
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