| 摘要 |
케이스(12)와, 상기 케이스(12) 내에 설치되는 제1 구역(16)과, 상기 제1 구역(16)에 가온한 제1 처리 가스를 유입하는 가스 가온기와, 상기 케이스(12) 내에 설치되고 제1 구역(16)에 인접하는 제2 구역(14)과, 상기 제2 구역(14)에 냉각한 제2 처리 가스를 유입하는 가스 냉각기와, 상기 제2 구역(14) 내에 설치되는 플라스마 발생용 전극(24)과, 상기 플라스마 발생용 전극(24)에 의해 상기 제1 구역(16)에 존재하는 제1 처리 가스를 플라스마화 하는 플라스마 발생기와, 상기 플라스마 발생기에 의해 플라스마화 된 플라스마 가스를 분출하는 분출구(20)를 구비하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라스마 발생 장치이다. |
