| 主权项 |
1.实质上消除聚合反应器内表面聚合物沈积之方法,包含在该表面涂布含有下式齐聚物之水溶液,然后在内表面经涂布处理之反应器内进行单体的聚合反应:式中R为卤或C,-。烷基,R,为H,OH,卤或C、-。烷基,R"为H或-CK"OH,n为1至20之整数。2.依第1.项之方法,其中单体为氯乙烯。3.依第1.项之方法,其中齐聚牠是出卤或烷基取代之纷,缩合剂及多羟基酚反应而得。4.依第1.项之方法,其中涂布溶液含有约0.05%至约3.0%重量之齐聚物。5.依第1.项之方法,其中经涂布处理之内表面先以水清洗后,才进行单体之聚合反应。6.依第1.项之方法,其中涂布溶液之pH値为约7.5至约9.5。7.依第3.项之方法,其中卤或烷基取代之酚为对一氯酚。8.依第3.项之方法,其中卤或烷基取代之酚为对一甲83a。9.依第3.项之方法,其中缩合剂为甲醛。10.依第3.项之方法,其中多羟基酚为间苯二酚。11.依第1.项之方法,其中齐聚物是对一氯Bfa,甲及间苯二酚之反应产物。 |
