| 摘要 |
Тестовый элемент для оперативного контроля качества планаризации, содержащий полупроводниковую пластину, сформированный на ней рельеф из проводящих шин, состоящий из ряда выступов минимального по ширине размера, расположенных с минимальным зазором, и планаризующий слой изолирующего диэлектрика, отличающийся тем, что в тестовом элементе дополнительно сформированы ряд выступов минимального по ширине размера с увеличенным зазором и ряд увеличенных по ширине выступов с минимальным зазором, причем увеличение ширины выступов и увеличение ширины зазора К выбирают из формулы: 10а≤К≤15а, где а - минимальная ширина выступа или соответственно минимальная ширина зазора. |
