| 摘要 |
본 발명의 실시예는 물질을 레이저 처리하기 위한 방법 및 장치를 제공한다. 상기 방법 및 장치에 있어서, 펄스형 레이저 방사선의 회절-제한된 빔은 펄스형 레이저 방사선의 회절된 빔을 발생시키도록 회절 디바이스에 의해 회절된다. 그 후에, 회절된 빔은 물질상에 집속되고, 회절된 빔의 방사선 펄스의 세트로부터의 방사선으로 타깃 위치에 있는 물질을 조사하도록 시간 및 공간적으로 제어되고, 그에 따라 방사선 펄스의 세트로부터의 각 방사선 펄스는 회절된 빔의 단면 부분으로 타깃 위치에 입사되고, 단면 부분은 회절된 빔의 국소 강도 최대값을 포함한다. 상기 세트의 펄스의 적어도 하나의 서브세트의 빔 단면 부분은 각각 상이한 국소 강도 최대값을 포함한다. 이와 같은 방식으로, 물질의 타깃 위치에서 광파괴를 발생시키기 위한 다중-펄스 인가가 구현될 수 있다. |
