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본 발명의 결정 방법은, 마스크의 복수의 패턴 요소의 형상을 규정하기 위한 제1 파라미터를 설정하는 스텝과, 유효 광원 분포를 규정하기 위한 제2 파라미터를 설정하는 스텝과, 제1 파라미터 및 제2 파라미터의 값을 변경하면서, 마스크 패턴의 상의 계산 및 평가 항목의 값의 계산의 처리를 반복하여, 마스크 패턴 및 유효 광원 분포를 결정하는 스텝을 포함하며, 패턴 요소의 파라미터는 근접 효과를 나타내는 지표의 값을 이용해서 1개의 파라미터로서 설정된다. |
