| 主权项 |
1﹒一种以含钛之触媒,在压力小于1000psi之气相中,以每时钛大于500,000磅聚合物之产率,生产乙烯聚合物(残余触媒量低于2ppm之钛)的触媒程序,所说的聚合物成颗粒形式与具有约0﹒91至0﹒94之密度,≧26至≦40之熔融流动比(对应之分子量分布为Mw/Mn之比値约3﹒0至6﹒0),此方法包括在约30至150℃的温度下,利用底下步骤使乙烯与一个或多个C3至C8a─烯烃单体起共聚物:在一气相反应区中,输入的单体与一包括一活化均匀粉碎组合物之触媒系统颗粒接触,其中所说的组合物有下列的实验组成MgmTi(OR)nX,[ED]q其中m≧5至≦200n是0或1p是≧10至≦400q是>0至3﹒0R是C1至C14脂族或芳香烃基,或COR',其中R'是一C1至C14的脂族烃或芳香烃基,X是Cl,﹒Br,I或其混合物,与ED是一选自包括脂族烃或芳香烃酸之烷基酯,脂族醚,环状醚,脂族酮与二─或多氨基化合物之群的液体有机电子给于体化合物,所说的组合物由二卤化镁与下法得到的络合物均匀粉碎制造的,所说的络合物走由一下式之钛化合物Ti(OR)aXb在此R与X如前之定义与a是0或1,b是2至4,a+b=3或4,和一如前定义的电子给予体化合物ED接触得到,所说的均匀粉碎组合物可在输入所说的反应区之前,先以在该均匀粉碎组合物的每克分子之钛化合物>0至35克分子的活化剂化合物部份活化,然后在所说的反应区中以在该均匀粉碎组合物之每克分子钛化合物≧40至400克分子活化剂化合物于以完全活化,或在该反应区,以在所说均匀粉碎组合物的每克分子钛化合物≧10至400克分子的活化剂化合物全部活化,所说的活化剂化合物具有下列化学式Al(R")cCdHe在此X'是Cl或OR''',R''与R"'是相同或不同的C1至C14饱和烃基,d是0至1﹒5e是0或1c+d+e=32﹒如在第1项申请的程序,其中二卤化镁包括MgCl2。3﹒如在第2项申请的程序,其中所说的电子给于体包括至少一个醚。4﹒如在第3项申请的程序,其中所说的电子给千体包括四氢喃。5﹒如在第2项申请的程序,其中所说的电子给于体包括至少一个酯。6﹒如在第5项申请的程序,其中所说的电子给于体包括茴香酸乙酯。7﹒如在第1项申请的程序,其中络合物 是TiCl4,茴香酸乙酯。8﹒如在第1项申请的程序,其中络合物是TiCl4﹒THF9﹒如在第1项申请的程序,其中络合物是TiCl4﹒2THF。10﹒如在第1项申请的程序,其中在均匀粉碎过程中加入一惰性的稀释剂。11﹒如在第10﹒项申请的程序,其中所说的惰性稀释剂是碳酸钙。12﹒如在第1项申请的程序,其中载体物质加入触媒中。13﹒如在第12项申请的程序,其中所说的载体物质是聚乙烯。 |
