发明名称 |
TiWAlN硬质薄膜及制备方法 |
摘要 |
本文发明公开了一种TiWAlN硬质薄膜及其制备方法,是以高纯Ti靶、W靶、Al靶为靶材,采用双靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上的,薄膜分子式表示为Ti(W,Al,N),厚度在1‑3μm;沉积时,真空度优于3.0×10<sup>‑5</sup>Pa,以氩气起弧,氮气为反应气体进行沉积,溅射气压0.3Pa,氩氮流量比10:(1‑3);Ti靶溅射功率230‑280W,W靶溅射功率80‑100W,Al靶溅射功率为0‑100W。所得硬质涂层综合具备了高硬度,高耐磨性的优良特点。 |
申请公布号 |
CN104073770B |
申请公布日期 |
2016.10.19 |
申请号 |
CN201410282805.X |
申请日期 |
2014.06.23 |
申请人 |
江苏科技大学 |
发明人 |
喻利花;许俊华;董鴻志 |
分类号 |
C23C14/34(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/34(2006.01)I |
代理机构 |
南京经纬专利商标代理有限公司 32200 |
代理人 |
楼高潮 |
主权项 |
一种TiWAlN硬质薄膜的制备方法,其特征在于,以Ti靶、W靶、Al靶为靶材,利用双靶共焦射频反应溅射法在硬质合金或陶瓷基体上沉积得到,薄膜分子式表示为Ti(W,Al,N),厚度在1‑3μm;当Ti靶功率250W,W靶功率为90W,Al靶功率为75W时,薄膜具有最佳的硬度、最佳的摩擦磨损性能;沉积时,真空度优于3.0×10<sup>‑5</sup>Pa,以氩气起弧,氮气为反应气体进行沉积,溅射气压0.3Pa,氩氮流量比10:(1‑3) |
地址 |
212003 江苏省镇江市京口区梦溪路2号 |