发明名称 涂胶处理系统和涂胶处理方法
摘要 本发明提供一种涂胶处理系统和涂胶处理方法。所述的涂胶处理系统包括:第一真空腔体;对进入所述第一真空腔体的液晶面板在真空环境下进行胶体涂覆处理的涂胶控制装置。所述的涂胶处理方法包括:在处于真空状态的第一真空腔体内对液晶面板涂胶。本发明能够较大程度避免了液晶面板涂胶时fan‑out区(周边布线区)产生气泡。
申请公布号 CN103316818B 申请公布日期 2016.10.19
申请号 CN201310272025.2 申请日期 2013.07.01
申请人 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 发明人 夏龙;王慧;龚占双
分类号 B05C9/00(2006.01)I;B05C11/10(2006.01)I;B05C13/02(2006.01)I;B05D1/00(2006.01)I;B05D3/02(2006.01)I;B05D3/06(2006.01)I;G02F1/13(2006.01)I 主分类号 B05C9/00(2006.01)I
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人 黄灿;程美琼
主权项 一种涂胶处理系统,其特征在于,包括:第一真空腔体;涂胶控制装置,所述涂胶控制装置用于对进入所述第一真空腔体的液晶面板在真空环境下进行胶体涂覆处理;与所述第一真空腔体连接的第一过渡腔室,所述第一过渡腔室具有第一腔门和第二腔门;液晶面板通过所述第一腔门进入所述第一过渡腔室,并通过所述第二腔门从所述第一过渡腔室进入所述第一真空腔体;所述第一过渡腔室连接有第一真空抽气装置,用于抽空所述第一过渡腔室内的气体;还包括:与所述第一真空腔体连接的第二真空腔体,用于对进入所述第二真空腔体内的经过胶体涂覆处理的液晶面板在真空环境下进行固化处理。
地址 230011 安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号