发明名称 氧化物阴极
摘要
申请公布号 TW059638 申请公布日期 1984.07.01
申请号 TW073100445 申请日期 1984.02.08
申请人 飞利浦电泡厂 发明人 亚可布斯 史多佛斯;约翰纳斯 封 艾斯唐克;简 哈斯克
分类号 H01K1/10 主分类号 H01K1/10
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种氧化物阴极包括一种底座,它大体上系由钦和加热该底座之一种经氧化铝覆盖之加热器元件所组成者,一层含有硷土金属氧化物之多孔层被设置在此底座上;此种阴极其特点为:该项钛底座,在其面对加热器元件之面上被覆盖以一层来自铂(Pt),铂(Mo),钽(Ta)和钨(W)该族之至少一种金属或各金属之合金所组成之一层物料。2.根据上述请求专利部份第l项之一种氧化物阴极,其特点为:该层系由纯钨所组成。3.根据上述请求专利部份第l或第2项之一种氧化物阴极,其特点为:该层系藉化学蒸汽沉积法(CVD)予以提供供者。4.根据上述请求专利部份任一项之一种氧化物阴极,其特点为:该层厚度为自一至一0/um。
地址 荷兰恩特荷芬巿格诺内梧兹路1号