| 主权项 |
1.一种制备某种类型之沈淀矽石之方法,包括一种矽酸盐与一种酸化剂之反应,因而获得沈淀矽石之一种悬浮液,然后此种悬浮液之分离及乾燥,其中沈淀系以下列方式进行:(i)生成包含一种矽酸盐及一种电解质之最初硷性料,于该最初硷性料中之矽酸盐浓度(以SiO2表示)系低于100克/升及于该最初硷性料中之电解质浓度系低于17克/升,(ii)将酸化剂加入该硷性料中,直到获得至少7之反应混合物之pH値为止,(iii)将酸化剂及一种矽酸盐同时加入反应混合物中,及其中乾燥具有不超过24%重量比之固体含量之一种悬浮液,其特征为该方法包括下列两种操作(a)或(b)之一种:(a)于阶段(iii)之后将至少一种铝化合物A、然后将一种硷性剂加入反应混合物中,该分离包含一种过滤及自此种过滤产生之滤饼之散解,该散解系于至少一种铝化合物B之存在下进行,(b)于阶段(iii)之后将一种矽酸盐及至少一种铝化合物A同时加入反应混合物中及,当该分离包含一种过滤及自此种过滤产生之滤饼之散解时,散解系于至少一种铝化合物B之存在下进行。2.根据申请专利范围第1项之方法,包括一种矽酸盐与一种酸化剂之反应,因而获得沈淀矽石之一种悬浮液,然后此种悬浮液之分离及乾燥,其中:-沈淀系以下列方式进行:(i)生成包含一种矽酸盐及一种电解质之最初硷性料,于该最初硷性料中之矽酸盐浓度(以SiO2表示)系低于100克/升及于该最初硷性料中之电解质浓度系低于17克/升,(ii)将酸化剂加入该硷性料中,直到获得至少7之反应混合物之pH値为止,(iii)将酸化剂及一种矽酸盐同时加入反应混合物中,-然后进行下列连续之阶段:(iv)将至少一种铝化合物A加入反应混合物中,(v)将一种硷性剂加入反应混合物中,直到获得于6.5与10之间之反应混合物之pH値为止,(vi)将酸化剂加入反应混合物中,直到获得于3与5之间之反应混合物之pH値为止,-分离包含一种过滤及自过滤产生之滤饼之散解,散解系于至少一种铝化合物B之存在下进行,-将显示最多24%重量比之固体含量之一种悬浮液乾燥。3.根据申请专利范围第2项之方法,其中阶段(v)之pH値系介于7.2与8.6之间。4.根据申请专利范围第2项之方法,其中阶段(vi)之pH値系介于3.4与4.5之间。5.根据申请专利范围第2项之方法,其中,于阶段(iii)与阶段(iv)之间,将酸化剂加入反应混合物中,直到获得于3与6.5之间之反应混合物之pH値为止。6.根据申请专利范围第1项之方法,包括一种矽酸盐与一种酸化剂之反应,因而获得沈淀矽石之一种悬浮液,然后此种悬浮液之分离及乾燥,其中沈淀系以下列方式进行:(i)生成包含一种矽酸盐及一种电解质之最初硷性料,于该最初硷性料中之矽酸盐浓度(以SiO2表示)系低于100克/升及于该最初硷性料中之电解质浓度系低于17克/升,(ii)将酸化剂加入该硷性料中,直到获得至少7之反应混合物之pH値为止,(iii)将酸化剂及一种矽酸盐同时加入反应混合物中,(iv)将一种矽酸盐及至少一种铝化合物A同时加入反应混合物中,及其中将显示最多24%之固体含量之一种悬浮液乾燥。7.根据申请专利范围第6项之方法,其中,于阶段(iv)之后,将酸化剂加入反应混合物中,直到获得于3与6.5之间之反应混合物之pH値为止。8.根据申请专利范围第6及7项中任一项之方法,其中分离包含一种过滤及自过滤产生之滤饼之散解,散解系于至少一种铝化合物B之存在下进行。9.根据申请专利范围第1项之方法,其中使用之铝化合物A及B之数量系致使制备之沈淀矽石包含至少0.35%重量比之铝。10.根据申请专利范围第1项之方法,其中铝化合物A系一种有机或无机铝盐,有机盐系选自羧酸或多羧酸之盐类及无机盐系选自卤化物类、氧卤化物类、硝酸盐类、磷酸盐类、硫酸盐类及氧硫酸盐类。11.根据申请专利范围第1项之方法,其中铝化物A系一种硫酸铝。12.根据申请专利范围第1项之方法,其中化合物B系一种硷金属铝酸盐。13.根据申请专利范围第1项之方法,其中铝化合物B系一种铝酸钠。14.根据申请专利范围第1项之方法,其中该分离包括经由一压滤机而进行之一种过滤。15.根据申请专利范围第1项之方法,其中该乾燥系经由喷雾而进行。16.根据申请专利范围第15项之方法,其中将显示高于15%重量比之固体含量之一种悬浮液乾燥。17.根据申请专利范围第14至16项中任一项之方法,其中该乾燥系经由一喷嘴乾燥器而进行。18.根据申请专利范围第14至16项中任一项之方法,其中其后研磨乾燥之产物。19.根据申请专利范围第18项之方法,其中其后将研磨之产物黏聚。20.根据申请专利范围第15项之方法,其中将显示最多15%重量比之固体含量之一种悬浮液乾燥。21.根据申请专利范围第20项之方法,其中其后将乾燥之产物黏聚。22.一种可经由根据申请专利范围第1项之方法而获得之沈淀矽石。23.一种沈淀矽石,其特征为其具有:-于140与200平方米/克之间之CTAB比表面积,-于140与200平方米/克之间之BET比表面积,-低于300毫升/100克之酸二辛酯油吸收,-于用超音波散解之后小于3微米之中位直径( 50),-高于10毫升之超音波散解因数(FD),-至少0.35%重量比之铝含量。24.根据申请专利范围第23项之矽石,其中其具有至少0.45%重量比之铝含量。25.根据申请专利范围第23及24项中任一项之矽石,其中其具有于0.50与1.50%重量比之间之铝含量。26.根据申请专利范围第23项之矽石,其中于用超音波散解之后,其具有小于2.8微米之中位直径( 50)。27.根据申请专利范围第23项之矽石,其中其具有高于11毫升之超音波散解因数(FD)。28.根据申请专利范围第23之矽石,其中其具有于200与295毫升/100克之间之酸二辛酯油吸收。29.根据申请专利范围第23项之矽石,其中其具有一种孔隙分布,致使由直径系于175与275埃之间之孔隙构成之孔隙体积代表至少50%之由小于或等于400埃之直径之孔隙构成之孔隙体积。30.根据申请专利范围第23项之矽石,其中其系于具有至少80微米之平均尺寸之实质地球形珠粒之形式。31.根据申请专利范围第30项之矽石,其中该平均尺寸系至少100微米。32.根据申请专利范围第31项之矽石,其中该平均尺寸系至少150微米。33.根据申请专利范围第23项之矽石,其中其系于具有至少15微米之平均尺寸之粉末之形式。34.根据申请专利范围第30至33项之矽石,其中其具有于240与290毫升/100克之间之酸二辛酯油吸收。35.根据申请专利范围第23项之矽石,其中其系于至少1毫米尺寸之颗粒之形式。36.根据申请专利范围第35项之矽石,其中其具有于200与260毫升/100克之间之酸二辛酯油吸收。37.一种矽石,其系得自根据申请专利范围第1项之方法,其作为弹性体之一种强化填充剂之用途。38.根据申请专利范围第22或23项之矽石,其作为弹性体之一种强化填充剂之用途。 |
