| 发明名称 |
Process for the correction of photo masks. |
| 摘要 |
<p>Verfahren zum Nachbessern der für die angewendete Belichtungsstrahlung nicht transparenten Maskenstruktur von optischen Belichtungsmasken, bei welchem die nachzubessernden Stellen der Belichtungsmaske durch stromlose Metallabscheidung aus autokatalytisch arbeitenden Bädern metallisiert werden.</p> |
| 申请公布号 |
EP0141434(A2) |
申请公布日期 |
1985.05.15 |
| 申请号 |
EP19840201179 |
申请日期 |
1984.08.15 |
| 申请人 |
PHILIPS PATENTVERWALTUNG GMBH;N.V. PHILIPS' GLOEILAMPENFABRIEKEN |
发明人 |
TIETJE, HANS-GERHARD |
| 分类号 |
G03F1/00;H01L21/027;(IPC1-7):G03F1/00 |
主分类号 |
G03F1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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