| 发明名称 |
VAPOR DEPOSITION OF METAL SILICATE BY PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS6096763(A) |
申请公布日期 |
1985.05.30 |
| 申请号 |
JP19840179148 |
申请日期 |
1984.08.28 |
| 申请人 |
ADOBANSUTO SEMIKONDAKUTAA MATEIRIARUZU AMERIKA INC |
发明人 |
RICHIYAADO ESU ROSURAA;JIYOOJI EMU INGURU |
| 分类号 |
C23C16/02;C23C16/42;C23C16/50;H01L21/205;H01L21/28;H01L21/285 |
主分类号 |
C23C16/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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