| 主权项 |
1.一供清洗一长形件的装置包含:一供支撑前述在-封闭室(外壳)内的元件之支持配置;一设置在前述外壳内的喷雾嘴,而且可操作以喷酒前述清洁剂于前述件上;一供供给一前述清洁剂至前述喷雾嘴的一配置;支持前述元件的前述配置当被驱动时可操作以转动前述元件;一可驱动前述支持配置及被可操作连接于此配置的第一驱动配置;一可操作连接于灰件驱动前述支持配置的第二驱动配置;以及前述喷雾嘴是被前述第二驱动配置所驱动,于操作中横行于邻近前述元件的空间内。2.如请求专利部份第1.项所述之清洁装置,其中前述供给配置包含:一砂粒箱以保有连接至前述喷雾嘴之砂粒;前述喷雾嘴可操作以混合和喷射一水与砂粒的喷雾。3.如请求专利部份第1.项所述之清洁装置,其中前述供给配置更包含:一排泄口前述外壳内以排出用过的清洗剂;一泵连接于前述排泄口供由前述外壳内移走前述用过之清洁剂;一分离器连接于前述泵,而且可操作自前用过之清洁剂中移是固体颗粒;以及前述分离器配置的一出口被连接。作水再循环。4.如请求专利部份第3.项所述之清洁装置,其中前述分离器配置包含:一漏斗分离器;及--过滤器列,连接作移除通经前述漏斗分离器的任何细小颗粒。5.如请求专利部份第4.项所述之清洁装置,其中更色色一第一种配置以监视横跨前述漏斗分离器的压力降,而且当压力降超过一给予値时提供一讯号。6.如请求专利部份第4.或5.项所述之清洁装置史包含一第二种配置以监督跨越前述过滤器列的压力降,而且当前述压力降超越-预定値峙,提供一讯号。7.如前述任一项请求专利部份所之清洁装置更包含:一供前述水用之给水箱;一设置在前给水箱中以冷却前述水之一冷却配置;一温度感测器以量测前述水之温度;以及一控制配置供控制所述冷却配置以反应所测得温度。8.如请求专利部份第7.项所述之清洁装置更包含一供侦测水位的水位侦测器于前述给水箱内,而且如果前述水位减低至一预定最小之下,则发出一低水位讯号。9.如请求专利部份第1.-8.项所述之清洁装置更包含一振动器连接于前述砂粒箱以使砂粒流经一砂粒箱出口。10.如请求专利部份第9.项所述之清洁装置,其中前述砂粒箱出口包括一可变受限流量开口以量度前述砂粒。11.如前述任一项请求专利部份所述之清洁装置更包括一控制前述第二驱动配置的第一控制配置,前述第一控制配置包含:一转动侦测器以侦测与前述第二驱动配置相关联之轴的转动;一可程式化的计数器连接于前述转动侦测器,而且可操作以产生値随前述转动函数变化的速度讯号;以及一第一驱动控制连接至前述可程式计数器,而且依据前述速度讯号可操作控制前述第二驱动配置,因此前述旋转是在依赖和前述第二驱动配置相关联的前述轴的转速而定速度下。12.如请求专利部份第11.项所述之清洁装置,其中前述速度讯号包含一高速讯号和一低速讯号,而且前述第一控制配置更包含位在前述可程式计数器与前述第一驱动控制间的高和低速讯号电路。13.如请求专利部份第12.项所述之清洁装置更包括一第二驱动控制以控制前述第一驱动配置,前述第二驱动控制被连接到另一可程式化计数器,而且依照前述轴之转速可操作以控制前述第一驱动配置的转速。14.如前述请求专利部份任一项所述之清洁装置更包括一控制系统内含与前述第一驱动配置相关联的转速侦测器以及一配置只要当和前述第一驱动配置相关联之轴的转速降至低于一预定最小値时,即可操作以拘限到前述喷雾嘴之前述清洁剂的供给。15.如前述请求专利部份中任一项所述之清洁装置,其中前述支持配置更含有:互相间隔位在前述外壳内之第一和第二辊子车架组;以及前述第一辊子车架组包含一对支持辊子适合于由前述第一驱动配置所驱动。16.如前述请求专利部份中任一项所述之清洁装置,其中前述支持辊子对具有由前述外壳延伸的轴,前述轴将由前述第一驱动配置所驱动。17.如以上请求专利部份任一项所述清洁装置,其中前述喷雾嘴是被与连接于前述第二驱动配置之一导螺杆相配合的一喷雾嘴车架所携带,前述导螺杆为伸缩囊所包围,其可依照前述喷雾嘴车架的移动而伸缩。18.如请求专利部份第17.项所述之清洁装置更包括一邻接导螺杆列置的轨道,前述喷雾嘴事架具有一配置和前述轨道作滚动配合,因而前述喷嘴车架可如前述轨道所横越的保持在一正确稳定位置内。 |
