发明名称 METHOD FOR PRODUCING METAL OXIDE FILM AND METAL OXIDE FILM
摘要 본 발명은, 저비용으로 저저항의 금속 산화막을 제작할 수 있는 금속 산화막의 제조 방법을 제공한다. 그래서, 본 발명에 관한 금속 산화막의 제조 방법에서는, 알킬 금속을 포함하는 용액(7)을, 비진공하에 배치된 기판(1)에 대해 분무한다. 또한, 당해 용액(7)을 분무할 때에, 기판(1)에 대해, 무기 화합물로 이루어지는 도펀트를 포함하는 도펀트 용액(5)을 분무한다.
申请公布号 KR20160130527(A) 申请公布日期 2016.11.11
申请号 KR20167030595 申请日期 2012.03.28
申请人 TOSHIBA MITSUBISHI-ELECTRIC INDUSTRIAL SYSTEMS CORPORATION 发明人 SHIRAHATA TAKAHIRO;ORITA HIROYUKI;HIRAMATSU TAKAHIRO
分类号 C23C16/40 主分类号 C23C16/40
代理机构 代理人
主权项
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