| 主权项 |
1.一种以光学方式测量一表面轮廓之装置,该装置包括一辐射源单位,一将辐射源单位所产生之辐射偏向,俾在该表面上形成一辐射光点之透镜系统,及一配置于自该表面所反射之辐射路径中视位置而定之辐射敏感检侦系统,其特点为,辐射源单位经构造成能产生一辐射光束,该光束之方向适时改变,其平均方向几乎垂直欲测量之表面,且其方向桓定通过几乎同一点,该点与该表面位于透镜系统之同一侧面;以及一光束分裂器系设置在从表面反射之辐射之辐射路径中,俾令来自表面之辐射偏向视位置而定之辐射敏感侦检系统。2.根据上述请求专利部份第1项所述之装置,其特点为,一光束分裂器将自该表面所反射之辐射在两个视位置而定之辐射敏感检侦系统间分裂,此两检侦系统系配置在距欲测鼠之表面不同之光距离处。3.根据上述请求专利部份第1或2项所述之装置,其特点为,辐射源单位系由一辐射源及一光束偏向元件所构成。4.根据上述请求专利部份第3项所述之装置,其特点为,光束偏向元件包含一平面镜,镜绕镜平面中之一轴线摆动且横断光束之主光线。5.根据上述请求专利部份第3项所述之装置,其特点为,光束偏向元件系一声光元件。6.根据上述请求专利部份第1或2项所述之装置,其特点为,辐射源单位系由多个辐射源及一顺序开关该等辐射源之控制电路所构成。7.根据上述请求专利部份第1 2 3 4 5或6项所述之装置,其特点为,在透镜系统与视位置而定之辐射敏感检侦系统间按次序配置有一四分之波片及一极化敏感光束分裂器,且辐射源单位所产生之辐射被线性极化。8.根据上述请求专利部份第1 2 3 4 56或7项所述之装置,其特点为,入射于欲测量表面上之辐射光束方向同时在两相互垂直之方向上变化。9.一种检侦配件是否存在于一支架上之特定位置上之器械,该器械包括一光学检侦系统及一相对移动该检侦系统及支架之驱动装置,其特点为,该检侦系统为上述专利部份中任何一项所述之装置,用以确定载有配件之支架与一基准两间之距离。10.根据上述请求专利部份第9项所述之一种检侦配件是否存在于一支架上之器械,其特点为,该器械包括一电路,用以确辐射源单位所发出之辐射方向与视位置而定之辐射敏感检侦系统之输出信号间之相位关系。 |
