| 主权项 |
1﹒如下通式之硼树脂:其中0为聚丙烯酸基体;R和R3可为相同或不同之一(CH2)n一,n为0─5;R1和R2可为相同或不同之C1─C5烷基X─为选自包含OH和卤化物之阴磷子。2﹒如申请专利范围第1项之硼树脂,其B含量在1─8%间,功能化度在每克树脂1─8毫当量B和2─9毫当量─NR1R2基元之间。3﹒如下通式所示硼树脂之制法:其中:p为聚丙烯酸基体;R和R3可为相同或不同之一(CH2)n一,n为0─5;R1和R2可为相同或不同之C1─C5烷基X─为选自包含OH和卤化物之阴离子其特征为,下式之氨基树脂:(其中p,R,R1和R2意义同上)经适当预处埋,再与下式之苯基硼氧化物:(YR3─C6H4─B─O)3(其中Y为卤素,而R3如上述),在有机媒质内,于硷性碘化物触媒存在内,于25─35℃温度缩合,所得式(I)内X为卤素时之树脂,可藉硷性氢氧化物水溶液处理,而转变成X为OH时之相对应树脂者。4﹒如申请专利范围第3项之方法,其中,在与苯基硼氧化物(Ⅲ)缩合之前,式(I)之氨基树脂再生成CL─形式,以脱矿物质之水洗濯,再生成OH形式,以脱矿物质之水洗,濯用可消除水之有机溶剂洗濯、乾燥,以有机溶剂膨润者。5﹒如申请专利范围第3项之方法,其中,氨基树脂(Ⅱ)与苯基硼氧物(Ⅲ)之有机缩合媒质,选自包含二甲基甲醯胺、二恶烷、和二甲基乙醯胺,有机媒质与树脂之比例在5─50L/kg间者。6﹒如申请专利范围第3项之方法,其中,氨基树脂(Ⅱ)与苯基硼氧化物(Ⅲ)系以0﹒5和1﹒5间之重量比反应者。7﹒如申请专利范围第3项之方法,其中,氨基树脂(Ⅱ)对硷性碘化物之重量比在1─2和10之间者。8﹒如申请专利范围第3项之方法,其中,树脂(I)中X为卤素时,藉浓度在20─60─g/l间之NaOH水溶液处理,而转变成X为OH时之树脂(I)者。9﹒如申请专利范围第2项之方法,其中,苯基硼氧化物为溴甲苯基硼氧化物者。 |
