| 主权项 |
1﹒一种用以制备下式2-恶化合物之方法,式中,R代表氢、卤素或三卤甲基;此方法包含有将下式之2-恶-4氧化物的化合物(式中,R之定义同前),在有效催化量之选自铂、铑、钌及镍等之至少一种触媒之存在下,于大约20至大约150℃以及大约6至大约60大气压下,利用氢予以还原者。2﹒如申请专利范围第1项所述之方法,其中之1-恶-4-氧化物系被置于另含有选自硷金属氢氧化物、硷土金属氢氧化物及氢氧化铵中之至少一种化合物的溶液内者。3﹒如申请专利范围第1项所述之方法,其中的R系选自氢、氯、氟、三氯甲基及三氟甲基者。4﹒如申请专利范围第1项所述之方法,其中之起始原料为6-氯-2-羟基恶-4-氧化物者。5﹒如申请专利范围第1项所述之方法,其中之还原反应系在大约30℃至大约120℃之间进行者。6﹒如申请专利范围第1项所述之方法,其中之还原反应系在大约8至大约15大气压之间进行者。7﹒一种由6-氯─2─羟基恶─4-氧化物制备6-氯-2-羟基恶之方法,而此方法系包括令6-氯-2-羟基恶-4-氧化物与氢,在(1)有效催化量之选自铂、铑、钌及镍中之至少一种触媒,以及(2)硷金属氢氧化物之水溶液的存在下,在大约20至大约150℃的温度,及于大约6至大约60大气压之压力下相反应之步骤。8﹒如申请专利范围第7项所述之方法,其中之反应系在大约30至120℃之温度及在大约8至大约15大气压之压力下进行者。 |
