| 主权项 |
1﹒一种具有以下结构式之化合物其中R为甲氧基或丙烯氧基;R1是由包含氢,C2─C4烷氧基烷基以及甲醯等原子团中所选取者;而R2为C1─C6烷基。2﹒如申请专利范围第1项之化合物,其中R为─OCH2CH=CH2。R1为─H而R2为─C2H5。3﹒如申请专利范围第1项之化合物,其中R为─OCH2CH=CH2,R1为─H而R2为─CH(CH3)2。4﹒如申请专利范围第1项之化合物,其中R为─OCH3,而R2为─CH,又R2为─C2H5。5﹒如申请专利范围第1项之化合物,其中R为─OCH3,R1为─CH,而R2为CH3。6﹒如申请专利范围第1项之化合物,其中R为─OCH3,R1为─H,而R2─C2H。7﹒一种含有某种在杀霉菌上为有效数量而具有以下结构式之杀霉菌组合物其中R为甲氧基或丙烯氧基;R1是由包含氢,C2─C4烷氧基烷基以及甲醯等原于团中所选取者;而R2为C1─C6烷基;其中并包含一种惰性稀释剂载体。8﹒抑制霉菌之方法,该法包含在需要抑制之部位施加一种在杀霉菌上为有效数量而具有以下通式之化合物其中R为甲氧基或丙烯氧基;R1是由包含氢,C2─C4烷氧基烷基以及甲醯等原子团中所选取者;而R2为C1─C6烷基。9﹒如申请专利范围第8项之方法,其中R为─OCH2CH=CH2,R1为─H而R2为─C2H5。10﹒如申请专利范围第8项之方法,其中R为─OCH3,R1为─H,而R2为─C22H5。 |
