发明名称 吩基稠合╳唑衍生物及其制法
摘要 如下式(I)之化合物及其制法□ (Ⅰ)(其中R1和R2各为氢,C1-4烷基,乙氧羰基,羧基,氯或溴,或R1和R2共成四亚甲基;X为氢,甲基,甲氧基,氯溴或羟基;且Y为甲川或氮),此制法乃将如下式(Ⅱ)化合物□ (Ⅱ)(其中R1,R2,X和Y各同上;A为如乙氧基等离基;R为C1-4烷基),在溶剂甲醇,乙醇,异丙醇,二氯甲烷,二氯乙烷,氯仿,四氯化碳,苯,甲基,二甲苯,或二甲基甲醯胺等,有酸或硷之存在下在约10~约30℃环化而得如下式 (Ia) 之化合物□ (Ia)(其中R,R1,R2,X和Y各同上)次将所得之化合物(Ia) 以无机硷如硷金属氢氧化物,碳酸盐,重碳酸盐等在在溶剂如水,甲醇,乙醇,异丙醇,二氯甲烷,二氯乙烷,氯仿,四氯化碳,乙醚,四氢喃,二烷,水,二甲基甲醯胺,二甲亚等或其混液;在惰性气流下于40℃~回流温度水解而得如下式 (Ib) 化合物□ (Ib)然后予以去酯及去羧化反应,即将所得化合物 (Ib) 在有机溶剂如,异等在约由190~约200℃,有催化剂如铜粉,亚铬酸-铜(CuO.Cr2O3)下反应,或先以硷金属氢氧化物处理转换成其硷金属盐后,在如氧化钙-氢氧化钠等硷之存在下加热约190~约200℃。制法A□ 步骤1 □(Ⅱ) → (Ia)↓步骤2□(Ib)↓步骤3□ 步骤4 □(Id) ← (Ic)↓步骤5□(Ie)制法B□ CC(V) (Ic)制法C□ + CC 步骤1(Ⅲ) (Ⅳ) →□ → CC(Ⅵ) 连续步骤1 (If)↓步骤2□(Ig)↓步骤3□(Ih)1984年11月 5 日在日本国申请专利第59-233511号
申请公布号 TW131775 申请公布日期 1990.04.01
申请号 TW074104896 申请日期 1985.11.02
申请人 盐野义制药股份有限公司 发明人 永业正美;松下享;高田进;新堂裕久;頩谷隆司
分类号 C07D487/04 主分类号 C07D487/04
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.如下式(Ⅰc)之化合物之制法:(其中R1和R2各为氢,C1-4烷基,乙氧羰基,羧基,氯或溴,或R1和R2共成四亚甲基;X为氢,甲基,甲氧基,氯溴或羟基;且Y为田川或氯),此制法乃将如下式(Ⅱ)化合物(其中R1,R2,X和Y各同上;为如乙氧基等离基;R为C1-4烷基),在溶剂如甲醇,乙醇,异丙醇,二氯甲烷,二氯乙烷,氯仿,四氯化碳,苯,甲苯,二甲苯,或二甲基甲醯胺等,有酸或硷之存在下在约10-约30℃环化而得如下式(Ⅰa)之化合物(其中R,R1,R2,X和Y各同上)次将所得之化合物(Ⅰa)以无机硷如硷金属氢氧化物,碳酸盐,重碳酸盐等在在溶剂如水,甲醇,乙醇,异丙醇,二氯甲烷,二氯乙烷,氯仿,四氯化碳,乙醚,四氢夫喃,二崿烷,水,二甲基甲醯胺,二甲亚风等或其混液;在惰性气流下于40℃-回流温度水解而得如下式(Ⅰb)化合物然后予以去酯及去羧化反应,即将所得化合物(Ⅰb)在有机溶剂如睡琳,异瞪琳等在约由190-约200℃,有催化剂如铜粉,亚铬酸-铜(CuO.Cr2O3)下反尘,或先以硷金属氢氧化物处理转换成其硷金属盐后,在如氧化钙-氢氧化钠等硷之存在下加热约190-约200℃。2.如申请专利范围第1项中之制法,乃令如下式(Ⅴ)化合物(其中,A,R1,R2,X和Y各同前;R5为丁氧羰基与酸如三氟醋酸;氢溴酸-醋酸在室温至约100℃,于适当之溶剂如甲醇,乙醇,异内醇,二氯甲烷,二氯乙烷,氯仿,四氯化碳,乙醚,四氢吠喃等中反应。3.如下式(Ⅰh)化合物之制法(其中R2为氢,C1-4烷基,乙氧羰基,羧基,氯或溴;R4为氢,C1-4烷氧羰基,羧基或溴;X为氢,甲基,甲氧基,氯,氟或羟基,且为甲川或氮),乃令如下式(Ⅳ')化合物与如下式(Ⅲ)化合物在适当溶剂如甲醇,乙醇,异丙醇,二氯甲烷,二氯乙烷,氯仿,四氯化碳,苯,甲苯,二甲苯,或二甲基甲醯胺等,在约室温-约100℃反应,而得如下(Ⅵ)化合物然后仿申请专利范围第1项环化所得之化合物(Ⅵ)而得如下式(Ⅰf)化合物:次仿申请专利范围第1项中之方法水解所得化合物(Ⅰf)而得如下式(Ⅰg)化合物再仿申请专利范围第1项中之方法对化合物(Ⅰg)进行去羧反应,(诸式中A,R2,R4,X及T各同前;R为C1-4烷基)4.如下式(Ⅰd)之化合物之制法:(其中R1和R2各为氢,或甲基;X为氢;且Y为甲川,R3为C1-4烷基或C1-2烷醯),此制法乃将如下式(Ⅰc)化合物(其中R1,R2,X和Y各同上);在冰冷-室温,如四氢吠喃,二愕烷,二乙二醇二甲醚,二甲基甲醯胺等溶剂中,有硷金属氢化物之存在下,与如烷基卤硫酸二烷酯等烷化剂,或如烷醯卤或烷酐等烷醯引入剂才存在下反应。5.如下式(Ⅰ)之化合物或其盐:(其中R1和R2各为氢,C1-4烷基,乙氧羰基,羧基,氯或溴,或R1和R2共成四亚甲基;R4为氢,C1-4烷氧羰基,羧基或溴;X为氢,甲基,甲氧基,氯,溴或烃基;且Y为甲川或氮)6.如申请专利范围第5项之化合物,其中Y为甲川。7.如申请专利范围第5项之化合物,其中R1及R2各为氢或C1-4烷基。8.如申请专利范围第5项之合物,其中X为氢,甲基,甲氧基或氯。9.如申请专利范围第5项之化合物,其中R1及R2各为氢或C1-4烷基,R4为氢,X为氢或甲基,Y为甲川。10﹒如下式(Ⅰd)化合物或盐:(其中R1和R2各为氢,或甲基;X为氢;且Y为甲川,R3为C1-4烷基或C1-2烷醯)。11.一种向精神剂,内含如下式(Ⅰ')化合物或基盐:(其中R1和R2各为氢,C1-4烷基,乙氧羰基,羧基,氯或溴,或R1和R2共成四亚甲基;R4为氢,C1-2烷氧羰基,羧基或溴;X为氢,甲基,甲氧基,氯,溴或烃基;且Y为甲川或氮);如下式(Ⅰd)化合物或其盐:(其中R1和R2各为氢,或甲基;X为氢;且Y为甲川,R3为C1-4烷基或C1-2烷醯)。
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