| 主权项 |
l.一种于基质上提供装饰涂层之方法,其包括下述步骤:提供一电弧于由钛、钛-铝、钴及钛-钴中之至少一种构成之一固体目标;提供一装饰性构件作为基质,构件之物料系选自塑胶、锌、锌合金、黄铜及不锈钢;提供一与该基质分隔之阳极;使该目标负倾斜于阳极;在阳极与目标间建立一电弧而因此使阴极电弧蒸发该目标;使蒸发物与氮或含碳气体中之至少一种反应;及沉积反应产物于基质上成为一装置涂层,其中该装饰涂层之厚度在0.5至5.0微米之范围内。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中装饰性构件主要为班级戒指、手表外壳、手表带、奖杯、眼镜架、笔帽及打火机。3.根据申请专利范围第1项之方法,其中基质为钛-锆合金及气体为氮,以在基质上提供其中0<X<1之TixZr1-xn之一金色涂层,及金色系在K随X之增加而增加时自约10K至24K而变化。4.根据申请专利范围第3项之方法,其中金色为约10K及X在约0.15与0.20之间变化。5.根据申请专利范围第3项之方法,其中金色为约14K及X在约0.25与0.30之间变化。6.根据申请专利范围第3项之方法,其中金色为约18K及X在约0.40与0.45之间变化。7.根据申请专利范围第3项之方法,其中金色为约24K及X在约0.50与0.55之间变化。8.根据由请专利范围第1项之方法,其中目标为钛及气体为含碳气体,以在基质上提供TiC之灰色涂层。9.根据申请专利范围第1项之方法,其中目标为钛及气体为氮与含碳气体混合物,以在基质上提供其中0<X<1之TiCxN1-x之一有色涂层,涂层色系根据X値而为棕色、青铜或深棕色。10.根据申请利范围第1项之方法,其中目标为钛-铝合金及气体为氮,以在基质上提供其中0<X<1之TixAl1-xN之一有色涂层,涂层色系根据X値而为深棕或黑色。11.根据申请专利范围第1项之方法,包括用O2或C或二者之混合物掺杂涂料。12.根据申请专利范围第11项之方法,其中目标为钛构成及气体为氮,故涂层为经掺杂之TiN。13.根据申请专利范围第12项之方法,其中经掺杂TiN之颜色为金色,金色视C及O2掺杂剂之相对比例而在约10K至24K之间变化。14.根据申请专利范围第13项之方法,其中金色为约10K,O2掺杂剂量为约4原子百分及C掺杂剂为约3原子百分。15.根据申请专利范围第14项之方法,其中Ti量为每一原子%N约1.25至1.40原子比。16.据申请专利范围第13项之方法,其中金色为约14K,及O2掺杂剂量为约4原子百分比。17.根据申请专利范围第16项之方法,其中Ti是为每一原子%N约1.15至1.20原子比。18.根据申请专范围第13项之方法,其中金色为约18K,O2掺杂剂量为约2原子百分及C掺杂剂为约5原子百分。19.根据申请专利范围第11项之方法,其中目标为成及气体为氮,故涂层为经掺杂之ZrN。20.根据申请专利范围第19项之方法,其中经掺杂ZrN之颜色为视C及O2掺杂剂之相对比例而自约10K变化至约24K之淡金色。21.根据申请专利范围第20项之方法,其中金色为约10K,及O2掺杂剂量为2原子百分。22.根据申请专利范围第20项之方法,其中金色为约14K,O2掺杂剂量为约1原子百分及C掺杂剂为约4原子百分。23.根据申请专利范围第19项之方法,其中经掺杂ZrN之颜色为淡金色。24.根据申请专利范围第23项之方法,其中掺杂剂量为约5原子百分O2。25.根据申请专利范围第1项之方法,其中该基质负倾斜于目标。26.根据申请专利范围第1项之方法,其中该电弧为脉动式。27.根据申请专利范围第1项之方法,其中该涂层为形成于基质上之唯一涂层。图示简单说明图1为用于本发明之阴极电弧电浆沉积装置之例示性具体实例之概图。图2为用于本发明之阴极电弧电浆沉积装置之例示性电弧源之概图。图3为显示本发明之电弧源之例示性工作周期之时间图。图3A为用于本发明之电弧供应之例示性控制电路之方块图。图3B为可用于图3A之控制电路之程式之例示性流程图。图4显示本发明之制造方法所产生之膜之反射剖面。图5及6为本发明之制造方法所产生之涂料膜之原子组成之剖面图。 |
