| 摘要 |
발명의 실시예에 따른 시스템 및 방법은 전기적 튜닝가능 메타표면을 구현한다. 일 실시예에서, 전기적 튜닝가능 메타표면 리플렉트어레이는 미러링된 표면과, 전도층과, 유전층 - 상기 전도층 및 유전층은 직접 접촉하여, 전도체-유전체 계면을 형성함 - 과, 복수의 서브파장 안테나 요소와, 적어도 하나의 서브파장 안테나 요소와 상기 미러링된 표면 간에 전위차를 구축하도록 구성되는 전력원을 포함하되, 서브파장 안테나 요소와 상기 미러링된 표면 간의 전위차는 전기적 튜닝가능 메타표면 리플렉트어레이의 대응 영역에 전기장을 인가하고, 상기 유전층, 전도층, 및 서브파장 안테나 요소들 각각의 기하구조 및 물질 조성과 연계하여 가해지는 전기장에 의해, 전기적 튜닝가능 메타표면 리플렉트어레이가, 입사 전자기파의 전파 특성을 측정가능하게 증강시킬 수 있다. |
