| 摘要 |
본 발명은 포토레지스트 패턴의 형성 방법에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는 기판 위에 포토레지스트층을 형성하는 단계; 노광 마스크를 이용하여 상기 포토레지스트층을 노광시키는 단계; 노광된 상기 포토레지스트층을 현상시켜 예비 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 예비 패턴의 표면을 코팅 폴리머를 포함하는 처리제로 표면 처리하는 단계를 포함하는 포토레지스트 패턴의 형성 방법에 관한 것이다. 본 발명의 포토레지스트 패턴의 형성 방법을 이용하면 LWR이 현저하게 개선되는 효과가 있다. |
