含六氟异丙叉基之聚醯胺及其涂料

摘要

本发明系关于含六氟异丙叉基之高温聚醯胺。本发明之高温聚醯胺与光（或辐射）敏化剂提供经改良之高温正光阻材料，其可在含水硷性显影剂中显像并经热退回，以形成适于用在微电子与印刷应用上之聚恶唑浮雕结构。本发明之正光阻具有在涂料溶剂中改良之溶解度与改良之光敏速度。本发明之聚醯胺可藉用缩合反应制得，例如二胺与二氯化醯之缩合反应。此外，本发明之聚醯胺提供具有优越黏着性质之高温保护性涂料于光阻领域外之其他应用上。附注：本案已向美国申请专利，申请日期：西历1986年10月