发明名称 Substrate disposition apparatus including cooling device
摘要 일 실시예의 기판 처리장치에 있어서, 상기 기판 처리장치의 내부 하측에 구비되는 기판 안착부; 상기 기판 안착부를 승하강시키는 제1승하강부; 및 동공이 형성되는 배관으로 구비되어 상기 동공으로 냉각용 가스가 상기 기판안착부에 안착되는 기판의 하측으로 공급되도록 하고, 상기 기판을 상기 기판 안착부로부터 이탈시키는 제2승하강부를 구비하고, 상기 제2승하강부는, 상기 냉각용 가스가 유입되는 유입관과, 상기 유입관으로부터 분기되어 복수로 구비되고 일단이 상기 기판의 하측에 배치되어 상기 기판의 하측에 냉각용 가스를 분사하는 분기관을 포함할 수 있다.
申请公布号 KR101677662(B1) 申请公布日期 2016.11.21
申请号 KR20150023309 申请日期 2015.02.16
申请人 주성엔지니어링(주) 发明人 피중호;구분회;윤선호
分类号 H01L21/02;H01L21/683 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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