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发明名称 AVOIDANCE AND DEVICE OF LEAKAGE BEAM EFFECT IN CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY EQUIPMENT
摘要
申请公布号 JPH02285629(A) 申请公布日期 1990.11.22
申请号 JP19890108177 申请日期 1989.04.27
申请人 TOSHIBA MACH CO LTD 发明人 MARUO MASAYUKI
分类号 G03F7/20;H01L21/027;H01L21/30 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
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