| 主权项 |
1﹒一种系统包括:含有下井区底部及下井区壁之下井区反应器槽,至少其一部份系在下井区内;分裂反应器炉心,系由反应器槽所包含;盛有冷却剂液体之液体储存池,液体之液体位准系在下井区底部以上;导管,由所述液体位准下方储存池中延伸,通过下井区壁进入下井区;及阻塞总成,该总成在正常状况下,阻塞液体由该储池中流出至下井区内,此阻塞总成与导管相连结以阻塞液体流通,此阻塞总成包括有易熔金属,其配置须使当其熔化时,液体可由储池中流入下井区内;因而,当炉心熔化前接触下井区底部时,此易熔金属熔化而使冷却剂液体流入下井区内,而抑制除气产生反应。2﹒根据申请专利范围第1项之系统,其中之阻塞总成更包括有间隔装置用以使此易熔金属与液法相隔热。3﹒根据申请专利范围第2项之系统,其中之阻塞装置包括有导管延长部份,易熔金属系配置于此导管延长部份内作为插塞,所述之间隔装置亦系配置于该插塞内及易熔金属与冷却液体之间,而间隔装置系由隔热材料所构成。4﹒根据申请专利范围第3项之系统,其导管装置包括有环型槽沟,此槽沟与易熔金属相啮合,因此此易熔金属系固定于导管延长部份内直至熔化为止。5﹒根技申请专利范围第4项之系统,其阻塞总成包括有盖子,配置于导管延长部份,因此该易熔金属系在盖子与间隔装置之间;因而此盖子保护此易熔金属而不致受侵蚀。6﹒根据申请专利范围第2项之系统,其中:该导管包括有凸缘;该阻塞总成包括有板,螺杆,螺帽,易熔金属系为螺杆轴颈形式,每一螺杆依序伸展通过相关螺杆轴颈,凸缘,及板,以及至少部份通过相关螺帽,因此使此板抵靠凸缘而密封,而使液体无法流入下井区内;及因而,当此易熔金属熔化时,使板与凸缘相分离,因此液体能流经导管至下井区内。7﹒根据申请专利范围第6项之系统,其中之阻塞总成更包括有O型环密封于凸缘与板之间。图示简单说明图1所示为根据本发明之反应器设备略图。图2所示为图1设备之阻塞总成复合体之剖视图。图3所示为可纳入图1反应器设备中附装于另一导管上之另一种阻塞总成之剖视图。 |
