| 摘要 |
본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 공정 챔버 내 지지 유닛에 지지된 기판으로 제 1 액과 제 2 액이 혼합된 약액을 공급하는 노즐 유닛, 상기 노즐 유닛으로 상기 약액을 공급하는 약액 공급 장치, 그리고 상기 약액 공급 장치를 제어하는 제어기를 포함하되, 상기 약액 공급 장치는, 복수의 케미컬들을 혼합하여 상기 제 1 액을 생성하는 혼합 탱크, 상기 혼합 탱크로부터 상기 제 1 액을 공급받고 상기 약액을 생성하는 공급 탱크, 상기 혼합 탱크와 상기 공급 탱크를 연결하는 연결 라인, 그리고 상기 연결 라인 상에 설치된 밸브 및 펌프를 포함하되, 상기 공급 탱크로 상기 제 1 액을 공급할 때, 스트로크 당 설정 공급량을 공급하도록 상기 펌프를 제어한다. |
