| 主权项 |
1.下式脂族醛之制法:R1.Z.C(R2)2CHO其中R1为芳基,Z为氧或硫基,R2为低烷基,其特点为使下式之二卤素烃烷:HOC(R2)2CHX2或下式之对应环氧化物:其中R2具有上述意义且X为氯化溴,与下式化合物:R1ZH其中R1及Z具有上述意义,在硷存在下反应。2.根据申请专利范围第1项之方法,其特点为R1选自苯基及 基,任意为一或多个选自低烷基,低烷氧基,氰基,硝基,之氟甲基及卤素之取代基取代。3.根据申请专利范围第1项之方法,其特点为R1为苯基,基,或具有1或2个选自甲基、乙基、第三丁基、甲氧基、乙氧基、氟、氯、溴、氰基及硝基之取代基之苯基,R2为甲基或乙基,Z为氧基。4.根据申请专利范围第1-3项任一项之方法,其特点为该硷为硷金属氢氧化物。5.根据申请专利范围第1-3项任一项之方去,其特点为该反应在一般水环境中于约20-60℃范围内之温度进行。6.根据申请专利范围第5项之方法,其特点为该一般水环 |
