| 主权项 |
1.一种制备一氧化碳与一或多种烯属未饱和化合物之线型聚合物之方法,在该聚合物中源自一氧化碳之单位和源自烯属未饱和化合物之单位交互顺序存在,该方法包括使单体在温度30-130℃,压力5-100巴,和烯属未饱和化合物对一氧化碳的莫耳比例为5:1到1:5,与触媒在具搅拌装置及包含超过10公斤稀释液的反应器中接触而制得,其中聚合物为不溶或实质上不溶于稀释液中,其特征为搅拌装置传送到聚合物悬浮液的动力,在聚合反应期间总量为大于1.5KW/m3聚合物悬浮液。2.根据申请专利范围第1项之方法,其特征为搅拌装置传送到聚合物悬浮液的动力,在聚合反应期间总量为2-15KW/m3聚合物悬浮液。3.根据申请专利范围第2项之方法,其特征为搅拌装置传送到聚合物悬浮液的动力,在聚合反应期间总量为2.5-10KW/m3聚合物悬浮液。4.根据申请专利范围第1至3项中任一项之方法,其特征为以批式进行时在接触单体和触媒之前,藉由悬浮一种与制得的聚合物其几乎完全相同组成的聚合物于稀释液中,其数量乃以式中a>100bc表示,其中a代表每升稀释液中聚合物的克数,b为聚合物之平均粒子大小的米数,c为聚合物体密度公斤/米3之数。5.根据申请专利范围第1至3项中任一项之方法,其特征为聚合反应在两或三个串连反应器中连续式操作时,每一反应器提供搅拌装置;以及在聚合反应期间,其中至少一个反应器内搅拌装置传送到聚合物悬浮液的动力密度总量超过1.5KW/m3。6.根据申请专利范围第1项之方法,其特征为触媒包含一种第VIII族金属。7.根据申请专利范围第6项之方法,其特征为触媒包含第VIII金属之钯,除了一种第VIII金属之外,及可以与第VIII金属形成复合物之二配位基向心配合体,和具pka値小于6之酸的阴离子,该二配位基向心配合体系经由二个含硫、含氮或含硫配位基形成复合物。8.根据申请专利范围第7项之方法,其特征为触媒包含一般化学式为(R1)2P-R-P(R1)2之磷二配位基向心配合体,其中R1代表具至少一个烷氧基取代物于相对于磷原子之邻位位置上的芳香族烃基,R代表桥中至少有二个碳原子之二价有机桥基。9.根据申请专利范围第7项之方法,其特征为触媒包含具pka値小于4之酸的阴离子。10.根据申请专利范围第7或8项之方法,其特征为触媒包含每莫耳VIII族金属中,磷二配位基向心配合体含量为0.75-1.5莫耳,具pka値小于6之酸的阴离子含量为2-50莫耳。11.根据申请专利范围第9项之方法,其特征为触媒包含阴离子于磺酸,例如对-甲苯磺酸;或卤羧酸,例如三氟乙酸。12.根据申请专利范围第1项之方法,其特征为作为烯属地未饱和化合物使用之烃,例如为乙烯,或乙烯和另一烯属地未饱和化合物如丙烯之混合物。13.根据申请专利范围第6项之方法,其特征为每莫耳被聚合之烯属未饱和化合物,使用第VⅢ族金属含量为10-6-10-4莫耳之含VⅢ族金属化合物触媒。 |
