发明名称 PROCESS FOR FORMING A PROTECTION LAYER FOR A SEMICONDUCTOR LASER
摘要 There is disclosed a process for forming a protection film for a semiconductor laser by sulfur or selenium-passivating side surfaces of a resonator of a semiconductor laser, and subsequently forming a protection film by ECR-CVD.
申请公布号 CA2048205(A1) 申请公布日期 1992.02.02
申请号 CA19912048205 申请日期 1991.07.31
申请人 SHIKATA, SHIN-ICHI 发明人 SHIKATA, SHIN-ICHI
分类号 H01S5/00;H01S5/028;(IPC1-7):H01S3/025 主分类号 H01S5/00
代理机构 代理人
主权项
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