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发明名称
有机溶媒蒸发槽
摘要
本发明系提供安装有除法水分所用之超蒸发膜模组(pervaprotion film module)在其内部之有机溶媒蒸发槽,与使用此种有机溶媒蒸发槽之有机溶媒再生方法者。本发明较适用于用水洗净半导体材料后,以有机溶媒蒸气洗净,乾燥之系统。如使用本发明之上述系统,则有助益于上述系统之小型化,与提升安全性,提升半导体材料之品质。
申请公布号
TW186555
申请公布日期
1992.07.01
申请号
TW080109139
申请日期
1991.11.21
申请人
日立制作所股份有限公司;赫斯特股份有限公司;戴西尔化学工业股份有限公司
发明人
三原和雄;山本正志;本田善次郎;白井秀树;新村嘉朗;樱井俊彦
分类号
B01D61/36
主分类号
B01D61/36
代理机构
代理人
何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项
地址
日本
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