| 发明名称 |
RADIATION-SENSITIVE POLYMERS |
| 摘要 |
Radiation-sensitive polymers suitable for use in positive- and negative-working recording elements contain not only acid-labile groups but also onium salt groups having nonnucleophilic counterions in one and the same molecule.
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| 申请公布号 |
US5130392(A) |
申请公布日期 |
1992.07.14 |
| 申请号 |
US19900462716 |
申请日期 |
1990.01.09 |
| 申请人 |
BASF AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
SCHWALM, REINHOLD;BOETTCHER, ANDREAS |
| 分类号 |
C08F8/00;C08F20/10;C08F20/38;C08F20/52;C08F28/00;C08F30/08;C08F212/14;C08F220/10;C08F220/38;C08F220/58;C08F228/02;C08F230/08;C08F246/00;C08G59/00;C08L63/00;G03F7/039 |
主分类号 |
C08F8/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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