| 摘要 |
Устройство для контактного экспонирования фоторезиста, содержащее оптическое основание для установки экспонируемого узла из сопряженных между собой маски, фотошаблона, закреплённого на подложке, со слоем фоторезиста, нанесённого на поверхность оптической заготовки, зафиксированной относительно фотошаблона, а также эластичный упор, обеспечивающий вакуумное прижатие экспонируемого узла к основанию, и источник излучения, отличающееся тем, что экспонируемый узел снабжён вторым фотошаблоном, имеющим рисунок маски, отличный от первого, контактирующий с дополнительным фоторезистом, нанесённым на вторую поверхность заготовки, а каждый из фотошаблонов размещён на посадочном месте соответствующей подложки, выполненной с оптическим окном, одно из которых обращено к источнику излучения, при этом подложки жёстко скреплены друг с другом с образованием монолитной конструкции экспонируемого узла, установленного с возможностью поворота оптического окна второй подложки к источнику излучения с сохранением ориентации рисунков масок друг относительно друга. |
