STRUTTURA POLARIZZATA PER PROCESSI AL PLASMA CHE PERMETTE LyINSEGUIMENTO DEL PROFILO DI SUBSTRATI ANCHE NON PIANI, PER PROCESSI PECVD, SPUTTERING E SIMILI.
摘要
申请公布号
ITRM910686(A1)
申请公布日期
1993.03.14
申请号
IT1991RM00686
申请日期
1991.09.13
申请人
CONSORZIO CENTRO DELLE TECNOLOGIE DEL VUOTO - CE.T
