| 发明名称 |
MIXED ALDEHYDE NOVOLAK RESINS AND HIGH CONTRAST HIGH THERMAL STABILITY POSITIVE PHOTORESISTS PREPARED THEREFROM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR930006913(B1) |
申请公布日期 |
1993.07.24 |
| 申请号 |
KR19890004163 |
申请日期 |
1989.03.31 |
| 申请人 |
MORTON THIOKOL INC. |
发明人 |
LAZARUS, RICHARD M.;KAUTZ, RANDALL;DIXIT, SUNIT S. |
| 分类号 |
G03F7/022;C08G8/00;C08G8/04;C08G8/10;G03F7/023;H01L21/027;H01L21/30;H05K3/00;H05K3/06;(IPC1-7):C08G8/10 |
主分类号 |
G03F7/022 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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