| 主权项 |
1﹒一种处理光敏材料之装置,包括﹒一槽,处理溶液即经由此槽泵送;一齿条,具有与其结为整组之装置,以利齿条插入该枯或自该槽取出,该齿条与槽具相关尺寸,俾于该齿条与槽之间形成有一小体积用以保持处理溶液与光敏材料;用以使处理溶液经由小体积中重新循环之装置;一个或数个槽喷嘴,系与该重新循环装置相连接及位于该槽之壁中,用以控制以动力方式冲击光敏材料表面上之处理溶液之速度及数量。2﹒根据申请专利范围第1项之装置,其中该槽喷嘴之宽度为自槽喷嘴排出之处理溶液较之光敏材料之宽度为宽。3﹒根据申请专利范围第1项之装置,其中该槽喷嘴之长度对宽度之比例为能使处理溶液迅速及均匀自该槽喷嘴排出。4﹒根据申请专利范围第1项之装置,其中该循环装置包括:一泵,用以使处理溶液重新循环;连接至该泵,齿条及格之导管,用以传送处理溶液;连接至该导管之一过滤器,用以除掉处理溶液中之颗粒之物质,其中包含于该泵,导管及过滤器中之处理溶液之体积不超过保持处理溶液之小体积。5﹒根据申请专利范围第1项之装置,另外包括:多个计量泵,用以计量化学药剂之特定数量;连接至该导管及计量泉之岐管,用以配施额外处理溶液至小体积。6﹒一种处理光敏材料之装置,包括:一槽,处理溶液即经由此槽泵送;一齿条,具有与其结为整体之装置,以便利其插入该槽或自该槽取出,该齿条与槽具相关尺寸,俾于该齿条与槽之间形成有一小体积用以保持处理溶液与光敏材料;用以使处理溶液经由小体积中重新循环之装置;一个或数个槽喷嘴,系与该重新循环装置相连接及位于该架之壁中,用以控制以动力方式冲击光敏材料表面上之处理溶液之速度及数量。7﹒根据申请专利范围第6项之装置,其中该槽喷嘴之宽度为自槽喷嘴排出之处理溶液较之光敏材料之宽度为宽。8﹒根据申请专利范围第6项之装置,其中该槽喷嘴之长度对宽度之比例为能使处理溶液迅速及均匀自该槽喷嘴排出。9﹒根据申请专利范围第6项之装置,其中该循环装置包括:一泵,用以使处理溶液重新循环;连接至该泵及齿条及格之导管,用以传送处理溶液;连接至该导管之一过滤器,用以除掉处理溶液中之颗粒物质,其中包含于该泵及导管及过滤器中之处理溶液之体积不超过保持处理溶液之小体积。10﹒根据申请专利范围第6项之装置,另外包括:多个计量泵,用以计量化学药剂之特定数量;连接至该导管及计量泉之岐管,用以配施额外处理溶液至小体积。11﹒根据申请专利范围第10项之装置,其中该等槽具有连接至储存槽之一溢流管以维持一致之处理溶液位准。12﹒一种用以于一小体积齿条与槽照相处理装置中调整处理溶液与光敏材料表面间化学反应之方法,此方法系藉控制经由一边界层抵达光敏材料表面之新鲜溶液之数量而完成,此边界层包括用过之处理溶液,此方法包括:(a)控制经由边界层冲击光敏材料表面之处理溶液之速度;(b)控制经由法界层冲击光敏材料表面之处理溶液数量,因此额外之处理溶液穿过边界层并且抵达光敏材料表面,俾于处理溶液与光敏材料之间产生均匀之化学反应。图示简单说明:图1为本发明之装置之示意图;图2为以更详细方式显示齿条11及槽12之示意图;图3为图2之驱动滚51之侧视图;图4为图2之从动滚74之侧视图;图5为具有纹理之流体承载表面301之透视图,此表面附加于图2之齿条11上图6为具有纹理之流体承载表面300之透视图,此表面附加于图2之槽12上;图7为一槽喷嘴之透视图;图8为糟喷嘴之底视图;图9为处理槽中多个槽啧嘴之透视图图10为附加于处理槽壁之槽喷嘴之侧视图;图11为附加于架壁之多个槽喷嘴之侧视图。 |
