애너모픽(anamorphic) 투영 시스템을 가진 리소그래피 장치, 및 플라즈마 형성 위치에 EUV 방사선 방출 플라즈마를 생성하도록 구성되는 방사원으로서, 상기 EUV 방사선 방출 플라즈마는 상기 방사원의 광축에 실질적으로 수직인 평면으로 기다란 형상(elongate form)을 가지는, 리소그래피 시스템.
申请公布号
KR20160124827(A)
申请公布日期
2016.10.28
申请号
KR20167025577
申请日期
2015.01.23
申请人
ASML NETHERLANDS B.V.
发明人
VAN SCHOOT JAN BERNARD PLECHELMUS;CUPERUS MINNE;YAKUNIN ANDREI MIKHAILOVICH
