| 主权项 |
1.一种蚀刻液之处理方法,其特征系在于以隔膜电解法处理含氯化亚铜之蚀刻液,于阴极室回收电极沈积铜,同时将阳极室所产生之氯气导入另一正在蚀刻工程使用之含有氯化亚铜之蚀刻液中,再生该液者,其中并具将含氯化亚铜之蚀刻液,导入隔膜电解槽之阴极室,回收金属之工程,和将铜回收后之液导入阳极室,氧化所含有之1价铜离子为2价铜离子,同时产生氯气的工程,和将该产生之氯气与其他含有氯化亚铜蚀刻液接触,氧化该液之工程者。2.如申请专利范围第1项之蚀刻液之处理方法,其中,具有将含有氯化亚铜之蚀刻液导入隔膜电解槽之阴极室,回收金属铜之工程。和将铜回收后之液与其他之含氯化亚铜蚀刻液合流之工程,和将该金属铜回收工程收产生之氯气,与合流液接触,氧化该合流液之工程者。3.一种蚀刻液之处理方法,其特征系在于将含铜之氯化铁蚀刻液以隔膜电解法加以处理,于调整3价铁浓度为30g/C以下,铜离子为/以下之阴极室回收铜的同时,将阳极室所产生之氯气导入另一正在蚀刻工程使用含铜之氯化铁蚀刻液中,而再生该液者,其中并具有将含铜之氯化铁蚀刻液,导入隔膜电解槽之阴极室,调整阴极液中3价铁离子浓度为30g/C以下,铜离子浓度至/以下,回收金属铜之工程,和将铜回收后之液导入阳极室,氧化所含有之1价铜离子及2价铁离子为2价铜离子及3价铁离子,同时产生氯气之工程,和将该产生氯气,与其他含铜之氯化铁蚀刻液相接触,氧化该液之工程者。4.如申请专利范围第3项之蚀刻液之处理方法,其中将含铜之氯化铁蚀刻液,导入隔膜电解槽之阴极室,调整阴极中3价铁离子浓度至30g/C以下,铜离子浓度至/以下,而回收金属铜之工程,和将铜回收后之液,与其他含铜之氯化铁蚀刻液合流之工程,和将该金属铜回收工程所产生之氯气与合流液接触,氧化该合流液之工程者。图1系有关本发明-实施例之概念流程图,图2系有关本发明之其 |
