| 主权项 |
1.一种移除氮氧化物之方法,此法系在触媒存在下选择性地还原废气中所含之氮氧化物,其包括使废气流经在废气通道中装有触煤层之导管,及由喷嘴将固体还原剂水溶液喷于流经该导管之废气,而使固体还原剂与废气混合之步骤;此法之特征为另包括(a)在将固体还原剂水溶液输送至喷嘴前,先使水与气体中至少一者流过喷嘴,藉以冷却喷嘴;及/或(b)在停止将固体还原剂水溶液输送至喷嘴后,使水与气体中至少一者流过喷嘴,藉以移除喷嘴中所残留之该水溶液;及/或(c)在将储存于高浓度下之固体还原剂水溶液输送至喷嘴之期间,使用水将此溶液稀释。2.如申请专利范围第1项之移除氮氧化物之方法,其中喷嘴具有包括内管及外管之双管结构,而内管尖端比外管尖端突出1至5mm,且喷嘴先装置于导管周边表面上,并在喷嘴内管输送水溶液且在内管与外管间之空间输送喷洒气体,以将固体还原剂水溶液喷洒于废气中。3.如申请专利范围第1或2项之移除氮氧化物之方法,其中喷洒气体与固体还原剂水溶液一起送入喷嘴内管中。4.一种移除氮氧化物之方法,此法系在触媒存在下选择性地还原废气中所含之氮氧化物,其包括使废气流经在废气通道中装有触媒层之导管,及由喷嘴将固体还原剂水溶液喷于流经该导管之废气,而使固体还原剂与废气混合之步骤;此法之特征为喷嘴具有包括内管及外管之双管结构,而内管尖端比外管尖端突出1至5mm,且喷嘴先装置于导管周边表面上,并在喷嘴内管输送水溶液且在内管与外管间之空间输送喷洒气体,以将固体还原剂水溶液喷洒于废气中。5.一种移除氮氧化物之装置,此为装有导管以使废气流经此导管,装有喷嘴以将固体还原剂水溶液喷入流经导管之废气中,装有触媒层(位于导管中)以促进废气中所含之氮氧化物的还原反应,且装有储存槽及管线以将该水溶液送至喷嘴;此种装置的特征为另外装有管线以使水及气体中至少一者流经喷嘴,其排列方式系在开始将固体还原剂之水溶液送至喷嘴前,先使水与气体中至少一者流经喷嘴以冷却喷嘴且/或在中断喷嘴之水溶液供料后,使水与气体中至少一者流经喷嘴,以去除喷嘴中残余之该水溶液;及/或此装置之特征为在该用以供应固体还原剂水溶液之管线上联接有提供稀释该水溶液所用之水的管线。6.如申请专利范围第5项之移除氮氧化物之装置,其中喷嘴系装在废气流速为15m/sec或更高之区中。7.如申请专利范围第5或6项之移除氮氧化物之装置,其中,喷嘴具有包括内管及外管之双管结构,且内管之尖端比外管之尖端突出1至5mm,此喷嘴装置在导管周边表面上,并在该喷嘴之内管提供该固体还原剂水溶液且在该内管与该外管间之空间提供喷洒气体,以将该固体还原剂水溶液喷入废气中。8.一种移除氮氧化物之装置,其系装有导管以使废气流经此导管,装有喷嘴以将固体还原剂水溶液喷入流经导管之废气中,装有触媒层(位于导管中)以促进废气中所含之氮氧化物的还原反应,且装有储存槽及管线以将该水溶液送至喷嘴;此装置的特征为喷嘴具有包括内管及外管之双管结构,且内管之尖端比外管之尖端突出1至5mm,此喷嘴装置在导管周边表面上,并在该喷嘴之内管提供该固体还原剂水溶液且在该内管与该外管间之空间提供喷洒气体,以将该固体还原剂水溶液喷入废气中。9.如申请专利范围第8项之移除氮氧化物之装置,其中 |
